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国产攻克28nm全部湿法工艺设备认证,明年进军14/7nm

发布日期:2021-07-13 17:26:54 浏览次数:

导读: 日前,国内半导体设备公司至纯科技在互动平台表示,目前至纯科技28纳米节点全部湿法工艺设备已认证完毕。


  

图:至纯科技


除了28nm工艺节点之外,上海证券报告中指出,至纯科技14nm及7nm工艺预计2022年可供客户验证,客户包括中芯国际、华虹集团、长鑫存储、华为、台湾力晶等行业领先者。


2020年至纯科技湿法工艺设备出货量超过30台,新增订单5.3亿元,增长211.8%


“湿法工艺设备”在晶圆制造产线主要用于有效清洗晶圆表面的颗粒、金属离子以及一些氧化层等等,在最大程度上去除晶圆上的杂质。一般的清洗原理主要分为干式以及湿式两种,由于湿式的整体工作效率更好,因此国内超过百分90%的产线均采用湿法设备


  

图:盛美半导体的湿法清洗设备


至纯科技表示,国内目前有三家在湿法工艺设备端提供中高阶湿法制程设备,分别是至纯科技、北方华创和盛美半导体,国内厂商的市场占比在逐年上升中。


同时,国内大型晶圆厂的新fab已经陆续批量采购本土厂商的刻蚀、清洗等工艺设备


据招标网统计,2020年长江存储公开采招标设备1512台,其中北方华创合计中标50台,包括成膜设备4台,刻蚀设备12台,退火设备30台,氧化设备1台,炉管1台;盛美半导体共计中标11台清洗设备。


2020年华虹无锡12寸厂合计采购267台半导体设备,其中北方华创中标真空烘烤炉等12台设备,盛美半导体中标15台清洗设备。


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